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          游客发表

          精度逼近 羲之,中國曝光機卻難量產

          发帖时间:2025-08-30 15:16:33

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          浙江大學余杭量子研究院研發的度逼 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」 ,

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          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源:中國杭州人民政府)

          延伸閱讀 :

          • 中媒:中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助 ,生產效率遠低於 EUV 系統 。代妈应聘机构使麒麟晶片性能提升有限。號稱性能已能媲美國際主流設備,華為也被限制在 7 奈米製程 ,【代妈应聘公司最好的】仍有待觀察。

          外媒報導,

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